企业简介
合肥芯碁微电子装备有限公司 main business:集成电路、印刷电路、平板显示、平板印刷、新能源工业领域的高端制造装备及软硬件产品的研发、生产、销售；自营和代理各类商品的进出口业务（国家法律法规限定或禁止的除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动） and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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合肥芯碁微电子装备有限公司的工商信息
- 340191000056216
- 91340100348841353K
- 存续（在营、开业、在册）
- 其他有限责任公司
- 2015年06月30日
- 程卓
- 6687.499000
- 2015年06月30日 至 2065年06月29日
- 合肥市高新开发区市场监督管理局
- 2017年03月22日
- 合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层
- 集成电路、印刷电路、平板显示、平板印刷、新能源工业领域的高端制造装备及软硬件产品的研发、生产、销售；自营和代理各类商品的进出口业务（国家法律法规限定或禁止的除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
合肥芯碁微电子装备有限公司的域名
| 类型 | 名称 | 网址 |
| 网站 | http://www.cfmee.cn/ | http://www.cfmee.cn/ |
合肥芯碁微电子装备有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN106019497A | 一种LD激光器组件的装配及检验方法 | 2016.10.12 | 本发明涉及一种LD激光器组件的装配及检验方法，与现有技术相比解决了尚无LD激光器耦合装配方法的缺陷。 |
| 2 | CN106019526A | 一种用于镜筒调焦的微调装置 | 2016.10.12 | 本发明涉及一种用于镜筒调焦的微调装置，与现有技术相比解决了镜筒难以进行精细微调的缺陷。本发明中固定座 |
| 3 | CN106019858A | 一种基于CUDA技术的直写式光刻机图像数据按位压缩方法 | 2016.10.12 | 本发明涉及一种基于CUDA技术的直写式光刻机图像数据按位压缩方法，与现有技术相比解决了CPU的像素压 |
| 4 | CN106019859A | 一种用于激光直写曝光机的高功率紫外半导体激光器 | 2016.10.12 | 本发明涉及一种用于激光直写曝光机的高功率紫外半导体激光器，与现有技术相比解决了尚无高功率紫外半导体激 |
| 5 | CN105093854B | 一种用于激光直写曝光机的自动粘尘装置 | 2017.04.12 | 本发明涉及一种用于激光直写曝光机的自动粘尘装置，与现有技术相比解决了无法在曝光过程中对PCB板进行除 |
| 6 | CN206059900U | 一种用于半导体激光器的循环水冷却装置 | 2017.03.29 | 本实用新型涉及一种用于半导体激光器的循环水冷却装置，与现有技术相比解决了散热效果差、拆装不便的缺陷。 |
| 7 | CN205910495U | 一种用于激光直写曝光机的高功率紫外半导体激光器 | 2017.01.25 | 本实用新型涉及一种用于激光直写曝光机的高功率紫外半导体激光器，与现有技术相比解决了尚无高功率紫外半导 |
| 8 | CN205910400U | 一种用于镜筒调焦的微调装置 | 2017.01.25 | 本实用新型涉及一种用于镜筒调焦的微调装置，与现有技术相比解决了镜筒难以进行精细微调的缺陷。本实用新型 |
| 9 | CN205910494U | 一种用于激光直写曝光机的多波长紫外半导体激光器 | 2017.01.25 | 本实用新型涉及一种用于激光直写曝光机的多波长紫外半导体激光器，与现有技术相比解决了尚无多波长半导体激 |
| 10 | CN106025788A | 一种用于半导体激光器的循环水冷却装置 | 2016.10.12 | 本发明涉及一种用于半导体激光器的循环水冷却装置，与现有技术相比解决了散热效果差、拆装不便的缺陷。本发 |
| 11 | CN106019857A | 一种基于无掩膜直写系统套刻曝光的定位方法 | 2016.10.12 | 本发明涉及一种基于无掩膜直写系统套刻曝光的定位方法，与现有技术相比解决了衬底旋转偏差的补偿必须依靠精 |
| 12 | CN106019856A | 一种用于激光直写曝光机的多波长紫外半导体激光器 | 2016.10.12 | 本发明涉及一种用于激光直写曝光机的多波长紫外半导体激光器，与现有技术相比解决了尚无多波长半导体激光器 |
| 13 | CN205300526U | 一种用于标定多个相机平行性的装置 | 2016.06.08 | 本实用新型提供一种用于标定多个相机平行性的装置，包括两自由度的运动平台以及布置在该运动平台上方的第一 |
| 14 | CN205156878U | 一种用于检测曝光系统光轴垂直度的装置 | 2016.04.13 | 本实用新型提供一种用于检测曝光系统光轴垂直度的装置，包括两自由度的运动平台、设置在该运动平台上方的成 |
| 15 | CN105466360A | 一种用于标定多个相机平行性的装置及方法 | 2016.04.06 | 本发明提供一种用于标定多个相机平行性的装置及方法，包括两自由度的运动平台以及布置在该运动平台上方的第 |
| 16 | CN205074297U | 一种用于直写式光刻机PCB板的卷对卷粘尘装置 | 2016.03.09 | 本实用新型提供一种用于直写式光刻机PCB板的卷对卷粘尘装置，包括两个上支架、两个下支架、两根转轴、第 |
| 17 | CN105278260A | 一种PCB曝光图形正确性验证方法 | 2016.01.27 | 本发明公开了一种PCB曝光图形正确性验证方法，其实现方式是：将标定板放在带有真空吸盘的精密平台上，标 |
| 18 | CN105278261A | 一种激光直写曝光机内层对位精度的测量方法 | 2016.01.27 | 本发明提供一种激光直写曝光机内层对位精度的测量方法，适用于曝光机PCB制板领域，调试成本低，易操作， |
| 19 | CN205003441U | 一种双台面激光直写曝光机 | 2016.01.27 | 本实用新型涉及一种双台面激光直写曝光机，与现有技术相比解决了激光直写曝光机工作效率低下的缺陷。本实用 |
| 20 | CN105278262A | 一种使用吸盘相机标定曝光机光路位置关系的方法 | 2016.01.27 | 本发明提供一种使用吸盘相机标定曝光机光路位置关系的方法，制作特定的带有mark的标记图片，静态投图， |
| 21 | CN204989751U | 一种用于无掩膜光刻直写系统的调焦装置 | 2016.01.20 | 本实用新型提供一种用于无掩膜光刻直写系统的调焦装置，包括设置在光刻物镜与承印材料之间的连续调焦组和固 |
| 22 | CN204989749U | 一种具有背面对准功能的无掩膜直写光刻机吸盘结构 | 2016.01.20 | 本实用新型涉及一种具有背面对准功能的无掩膜直写光刻机吸盘结构，与现有技术相比解决了结构复杂、操作复杂 |
| 23 | CN105241399A | 一种精密定位平台动态平面度的测量方法 | 2016.01.13 | 本发明提供一种精密定位平台动态平面度的测量方法，在所测精密定位平台上安装真空吸盘，在真空吸盘上吸附带 |
| 24 | CN204957792U | 一种LDI单机自动装置 | 2016.01.13 | 本实用新型提供一种用于PCB板制程的LDI单机自动装置，包括依次设置LDI直接曝光成像设备、六轴机械 |
| 25 | CN204962175U | 一种可测振幅的精密机台减振座 | 2016.01.13 | 本实用新型提供一种可测振幅的精密机台减振座，包括上减振块、下减振块和若干滚柱，所述上减振块与精密机台 |
| 26 | CN105242497A | 具有抗拼接撕裂用于激光直写成像设备的扫描曝光方法 | 2016.01.13 | 本发明提供一种具有抗拼接撕裂用于激光直写成像设备的扫描曝光方法，解决了在实际曝光过程中的拼接撕裂问题 |
| 27 | CN204945617U | 一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置 | 2016.01.06 | 本实用新型涉及一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置，与现有技术相比解决了针对UVLED |
| 28 | CN204944803U | 一种用于激光直写曝光机的激光能量测量装置 | 2016.01.06 | 本实用新型提供一种用于激光直写曝光机的激光能量测量装置，该装置包括设置在激光器输出光路上的光电变送单 |
| 29 | CN204945619U | 一种具有倍率微调功能的光刻远心物镜 | 2016.01.06 | 本实用新型提供一种具有倍率微调功能的光刻远心物镜，从物面开始，沿光轴依次包括具有正焦距的第一透镜组、 |
| 30 | CN204945620U | 一种用于激光直写曝光机的自动吸尘装置 | 2016.01.06 | 本实用新型涉及一种用于激光直写曝光机的自动吸尘装置，与现有技术相比解决了无法在曝光过程中对PCB板进 |
| 31 | CN105217311A | 一种LDI单机自动装置 | 2016.01.06 | 本发明提供一种用于PCB板制程的LDI单机自动装置，包括依次设置LDI直接曝光成像设备、六轴机械手、 |
| 32 | CN204945618U | 一种用于激光直写曝光机的自动粘尘装置 | 2016.01.06 | 本实用新型涉及一种用于激光直写曝光机的自动粘尘装置，与现有技术相比解决了无法在曝光过程中对PCB板进 |
| 33 | CN105204297A | 倾斜扫描式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法 | 2015.12.30 | 本发明提供一种倾斜扫描式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法，包括计算出待曝光图形每次拆分的单色位 |
| 34 | CN105204298A | 一种用于直写式光刻机图形发生器的凹四边形FPGA硬件填充方法 | 2015.12.30 | 本发明涉及一种用于直写式光刻机图形发生器的凹四边形FPGA硬件填充方法，与现有技术相比解决了无法针对 |
| 35 | CN105182699A | 一种双台面激光直写曝光机及其控制方法 | 2015.12.23 | 本发明涉及一种双台面激光直写曝光机及其控制方法，与现有技术相比解决了激光直写曝光机工作效率低下的缺陷 |
| 36 | CN105183037A | 一种激光直写式光刻机精确温度控制方法 | 2015.12.23 | 本发明提供一种激光直写式光刻机精确温度控制方法，包括如下步骤：采集曝光区域当前温度和水冷设备出水口当 |
| 37 | CN105183562A | 一种基于CUDA技术对栅格化数据进行抽阶的方法 | 2015.12.23 | 本发明涉及一种基于CUDA技术对栅格化数据进行抽阶的方法，与现有技术相比解决了栅格化数据抽阶效率较低 |
| 38 | CN105182700A | 一种具有背面对准功能的无掩膜直写光刻机吸盘结构 | 2015.12.23 | 本发明涉及一种具有背面对准功能的无掩膜直写光刻机吸盘结构，与现有技术相比解决了结构复杂、操作复杂度高 |
| 39 | CN105158877A | 一种直写式光刻机缩影物镜的倍率标定方法 | 2015.12.16 | 本发明提供一种直写式光刻机缩影物镜的倍率标定方法，包括：分别计算出基底上的标记图形通过缩影物镜到CC |
| 40 | CN105159037A | 一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法 | 2015.12.16 | 本发明提供一种直写式光刻机图形发生器的角度标定方法，包括：分别计算出精密运动平台X轴方向与CCD宽度 |
| 41 | CN105159036A | 一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统 | 2015.12.16 | 本发明提供一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统，包括温度监控模块、温度处理控制模块和温度控制执 |
| 42 | CN105115703A | 一种用于激光直写曝光机的激光能量测量装置 | 2015.12.02 | 本发明提供一种用于激光直写曝光机的激光能量测量装置，该装置包括设置在激光器输出光路上的光电变送单元以 |
| 43 | CN105116689A | 一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置 | 2015.12.02 | 本发明涉及一种用于直写曝光机的UVLED阵列光源收集利用装置，与现有技术相比解决了针对UVLED发光 |
| 44 | CN105093860A | 一种用于无掩膜光刻直写系统的调焦装置及其调焦方法 | 2015.11.25 | 本发明提供一种用于无掩膜光刻直写系统的调焦装置，包括设置在光刻物镜与承印材料之间的连续调焦组和固定调 |
| 45 | CN105093856A | 一种激光直接成像设备成像位置误差的检测方法 | 2015.11.25 | 本发明提供一种激光直接成像设备成像位置误差的检测方法，将拼接误差检测图形输入激光直接成像设备，通过空 |
| 46 | CN105093854A | 一种用于激光直写曝光机的自动粘尘装置 | 2015.11.25 | 本发明涉及一种用于激光直写曝光机的自动粘尘装置，与现有技术相比解决了无法在曝光过程中对PCB板进行除 |
| 47 | CN105093855A | 一种无掩膜光刻直写系统的照明均匀性测试方法 | 2015.11.25 | 本发明提供一种无掩膜光刻直写系统的照明均匀性测试方法，包括设置具有一定能量梯度的曝光模式；将涂覆光刻 |
| 48 | CN105090685A | 一种可测振幅的精密机台减振座 | 2015.11.25 | 本发明提供一种可测振幅的精密机台减振座，包括上减振块、下减振块和若干滚柱，所述上减振块与精密机台固定 |
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